臭氧設(shè)備空間穩(wěn)步增長(zhǎng)，產(chǎn)品性能提升，新領(lǐng)域拓展未來可期
2023-02-10 09:43:55
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, 根據(jù)測(cè)算，臭氧發(fā)生器傳統(tǒng)四大行業(yè)2021-2025年市場(chǎng)空間CAGR可達(dá) 13%，2025 年市場(chǎng)空間可達(dá) 24.5 億元，其中，市政給水、市政污水、工業(yè)廢水、煙氣治理 2021-2025 年市場(chǎng)空間 CAGR 分別為 21%、18%、8%、10%。
, 隨著臭氧產(chǎn)品性能提升，下游應(yīng)用持續(xù)擴(kuò)張，包括紙漿漂白臭氧發(fā)生器應(yīng)用系統(tǒng)、半導(dǎo)體級(jí)高濃度臭氧水系統(tǒng)、光伏級(jí)高濃度臭氧水系統(tǒng)、電子級(jí)超純臭氧氣體發(fā)生、家用臭氧水機(jī)等，新領(lǐng)域拓展值得期待。
, 飲用水新標(biāo)落地，深度處理需求擴(kuò)張
, 為增強(qiáng)水資源承載能力與經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的適應(yīng)性，2021 年 12 月水利部印發(fā)《關(guān)于實(shí)施國(guó)家水網(wǎng)重大工程的指導(dǎo)意見》，要求進(jìn)一步提高城鄉(xiāng)供水保障水平。根據(jù)國(guó)家統(tǒng)計(jì)局?jǐn)?shù)據(jù)，2020 年全國(guó)供水能力為 1170.65 億立方米，預(yù)計(jì)“十四五”期間供水能力將在此基礎(chǔ)上提高 290 億立方米，2021-2025 年供水量 CAGR 約為 3.8%。
, 新版飲用水標(biāo)準(zhǔn)即將落地，深度處理需求增長(zhǎng)。為推動(dòng)供水高質(zhì)量發(fā)展，新修訂的《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》(GB5749-2022)于 2022 年 3 月發(fā)布，并將于 2023 年 4 月正式實(shí)施。新標(biāo)取消了在水源或凈水條件限制時(shí)部分指標(biāo)限值的放寬，提高了水中游離氯余量及消毒副產(chǎn)物的指標(biāo)限值。
, 2019年全國(guó)298家自來水廠的采樣調(diào)研結(jié)果顯示，34%水廠原水為 III-IV水，原水耗氧量較高，必須采用深度處理技術(shù)才能滿足水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的要求。而2019年調(diào)研中298個(gè)水廠深度處理率僅為17.8%，市政給水領(lǐng)域深度處理需求量仍存在較大的增長(zhǎng)空間。
, 在市政給水領(lǐng)域，臭氧活性炭工藝和膜工藝是主要的深度處理工藝，2019 年臭氧活性炭工藝占深度處理工藝的 67.9%。膜工藝占 28.3%。相較膜工藝，臭氧活性炭工藝對(duì)高耗氧量原水優(yōu)勢(shì)突出，除難降解有機(jī)物能力高，可除重金屬離子；而膜工藝在去除懸浮物、降低濁度等方面效果更佳。
, 在投資和運(yùn)行成本上，臭氧活性炭工業(yè)主要投資為設(shè)備成本和臭氧接觸池建設(shè)，處理成本主要包括電費(fèi)、維護(hù)費(fèi)用和液氧費(fèi)用；膜工藝主要投資為膜材料和相關(guān)建筑物，處理成本主要包括維護(hù)費(fèi)用、膜更換費(fèi)用，廢棄物處置費(fèi)用等；其中納濾膜深度處理效果較超濾更好，但其加壓過濾工藝會(huì)帶來較高的電費(fèi)支出，過濾產(chǎn)生的濃水也會(huì)增加處理成本。
, 綜合來講，臭氧活性炭工藝和膜工藝存在處理效果差異，需根據(jù)原水水質(zhì)等條件選擇。政給水領(lǐng)域臭氧發(fā)生器品質(zhì)要求較高，以國(guó)外和國(guó)內(nèi)龍頭企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)為主，競(jìng)爭(zhēng)格局較好，臭氧設(shè)備價(jià)格較高。
, 參考國(guó)林科技給水工程中配套臭氧設(shè)備規(guī)模，設(shè)備單價(jià)，按照設(shè)備使用年限10年，2021-2025 年，深度處理比例每年提升約 5pct，臭氧工藝占比每年提升約1pct 進(jìn)行測(cè)算，預(yù)計(jì)2022-2025年市政給水領(lǐng)域臭氧設(shè)備市場(chǎng)空間為3.1/3.6/4.1/4.7億元，同比增速40.0%/16.0%/14.8%/13.8%。
, 污水廢水處理，臭氧工藝優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)
, 2021 年，國(guó)家發(fā)改委、住建部印發(fā)《“十四五”城鎮(zhèn)污水處理及資源化利用發(fā)展規(guī)劃》，要求縣城污水處理率達(dá)到 95%以上，污水收集處理及資源化利用能力水平得到全面提升。
, 污水資源化利用要求提高，深度處理率有望增長(zhǎng)?！笆奈濉币?guī)劃要求，全國(guó)地級(jí)及以上缺水城市再生水利用率達(dá)到 25%以上，污水處理要滿足回用的基本要求，就必須達(dá)到一級(jí) A 及以上排放標(biāo)準(zhǔn)，因此設(shè)置深度處理環(huán)節(jié)至關(guān)重要。到 2025 年，預(yù)期城市污水深度處理率可達(dá)到 95%水平。
, 技術(shù)替代驅(qū)動(dòng)力強(qiáng)，臭氧工藝除難降解有機(jī)物效果好。深度處理環(huán)節(jié)常見技術(shù)包括高級(jí)氧化法、生物法、物化法等，其中物化法包括絮凝沉淀等，可將污水中顆粒態(tài)和部分膠體態(tài)以沉淀污泥的形式加以去除和回收，其提升改造成本低，但對(duì)溶解態(tài) COD 去除能力有限；生物法主要采用生物膜法，基建和運(yùn)維成本小，生物降解效果較好，但是產(chǎn)生大量污泥會(huì)增加處理成本。
, 值得注意的是，隨著經(jīng)濟(jì)社會(huì)的進(jìn)步，市政污水中難降解有機(jī)物包括持久性有機(jī)污染物成為去除的難點(diǎn)，而高級(jí)氧化法除難降解有機(jī)物能力強(qiáng)，受到廣泛選擇。
, 在高級(jí)氧化法中，化學(xué)氧化法需要較高的化學(xué)試劑投入，操作較復(fù)雜；臭氧氧化法具有顯著優(yōu)勢(shì)，如自動(dòng)化程度高，抗沖擊負(fù)荷性能好，無污泥產(chǎn)生。將臭氧氧化與生物膜、超濾等工藝聯(lián)合應(yīng)用的耦合工藝，將是市政污水領(lǐng)域未來發(fā)展的重要方向之一。
, 近年來，市政污水領(lǐng)域臭氧發(fā)生器已基本實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代，隨著競(jìng)爭(zhēng)的激烈，臭氧設(shè)備單價(jià)有所下降。污水處理中，臭氧投加量與生活污水和工業(yè)廢水比例關(guān)系較大，可在 3-25mg/L 范圍內(nèi)變化，且隨著水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)要求的嚴(yán)格有所提升，故臭氧設(shè)備選型較大。參考國(guó)林科技市政污水工程中配套臭氧設(shè)備規(guī)模，設(shè)備單價(jià)，按照設(shè)備使用年限 6～7年，到2025年深度處理占比達(dá)到95%。
, 此外，2020 年中國(guó)萬(wàn)元工業(yè)增加值用水量 32.9噸，《工業(yè)水效提升行動(dòng)計(jì)劃》提出到 2025 年萬(wàn)元工業(yè)增加值用水量較 2020 年下降 16%，工業(yè)領(lǐng)域節(jié)水持續(xù)推進(jìn)?？紤]全部工業(yè)增加值的穩(wěn)定增長(zhǎng)，預(yù)計(jì) 2022-2025 年工業(yè)領(lǐng)域用水量需求總體穩(wěn)定。
, 同時(shí)，為了提高資源利用率，《工業(yè)廢水循環(huán)利用實(shí)施方案》提出到2025年工業(yè)用水回用率要達(dá)到94%左右，對(duì)工業(yè)廢水深度處理需求更高。隨著工業(yè)廢水處理和工業(yè)用水回用要求的提高，工業(yè)廢水深度處理率不斷提升。如前所述，深度處理工藝中，高級(jí)氧化法具有降 COD 能力強(qiáng)，可去除難降解有機(jī)物等優(yōu)點(diǎn)，在紡織印染、皮革、電鍍、醫(yī)藥等行業(yè)的廢水處理中得到了廣泛應(yīng)用。
, 臭氧氧化較傳統(tǒng)化學(xué)氧化工藝，無藥劑成本，不會(huì)產(chǎn)生復(fù)雜的化學(xué)產(chǎn)物，有利于出水回用，具有技術(shù)替代趨勢(shì)。預(yù)計(jì) 2025 年工業(yè)廢水臭氧設(shè)備市場(chǎng)空間 10.4 億元，2021-2025 年 CAGR 為8.2%。
, 不同行業(yè)的工業(yè)廢水在化學(xué)需氧量、重金屬濃度、色度、濁度等方面存在較大差異，臭氧投加量可在 10-300mg/L 范圍內(nèi)變化。根據(jù)工程經(jīng)驗(yàn)臭氧投加量和化學(xué)需氧量之比取為 3，工業(yè)廢水化學(xué)需氧量進(jìn)行測(cè)算，按照設(shè)備使用年限 6-7年，2022 年深度處理占比即達(dá)到 100%，臭氧工藝占比持續(xù)提升進(jìn)行測(cè)算，預(yù)計(jì) 2022-2025 年工業(yè)廢水領(lǐng)域臭氧設(shè)備市場(chǎng)空間為8.8/9.2/9.8/10.4 億元，同比增速 15.0%/4.3%/7.1%/6.6%。
, 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國(guó)產(chǎn)替代，清洗用臭氧打開新空間
, 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移&產(chǎn)業(yè)鏈安全，半導(dǎo)體清洗設(shè)備及核心零部件國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中心從美國(guó)、日韓、中國(guó)臺(tái)灣向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，中國(guó)大陸成為全球晶圓新增產(chǎn)能中心。
, 根據(jù)盛美半導(dǎo)體投資者交流材料，2017-2020年期間中國(guó)新投產(chǎn)晶圓產(chǎn)能占比達(dá)42%，擴(kuò)張迅猛。根據(jù) JW Insights 統(tǒng)計(jì)，2022年初中國(guó)大陸共有23家12英寸晶圓廠正在投入生產(chǎn)，總產(chǎn)能104.2萬(wàn)片/月，與規(guī)劃總產(chǎn)能156.5萬(wàn)片/月相比仍有較大擴(kuò)產(chǎn)空間。
, 此外JW Insights 預(yù)測(cè)試圖覆蓋未來增量市場(chǎng)，中國(guó)大陸2022-2026年將新增25座12英寸晶圓廠，總規(guī)劃產(chǎn)能160萬(wàn)片/月，較當(dāng)前產(chǎn)能提高165%。中國(guó)大陸晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)帶動(dòng)中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售高增。
, 2022年10月7日，美國(guó)商務(wù)部宣布了新的半導(dǎo)體限制措施，波動(dòng)的國(guó)際形勢(shì)下，半導(dǎo)體行業(yè)限制措施頒布的頻次加快，影響加深，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈安全重要性提到新高度，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國(guó)產(chǎn)替代加速。
, 清洗是貫穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要工藝環(huán)節(jié)，用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測(cè)試中每個(gè)步驟可能存在的雜質(zhì)，確保芯片良率與產(chǎn)品性能。當(dāng)前在光刻、刻蝕、沉積等重復(fù)性工序后均設(shè)置了清洗工序，清洗步驟數(shù)量約占所有芯片制造工序步驟的 30%以上，是所有芯片制造工藝步驟中占比最大的工序。
, 隨著工藝制程升級(jí)，芯片結(jié)構(gòu)復(fù)雜度不斷提升，晶圓制造工藝更加精密化，清洗工序數(shù)量和重要持續(xù)提升。濕法清洗與干法清洗通過清洗介質(zhì)進(jìn)行區(qū)分，濕法主要是采用特定的化學(xué)藥液和去離子水，對(duì)晶圓表面進(jìn)行無損傷清洗，同時(shí)可采用超聲波、加熱、真空等輔助技術(shù)手段；干法清洗則不使用化學(xué)溶劑，以氧氣等離子氣體、化學(xué)試劑的氣相等效物、高能束流狀物質(zhì)等進(jìn)行清洗。
, 目前濕法清洗為主流的清洗技術(shù)路線，占芯片制造清洗步驟梳理的 90%以上，少量特定步驟采用濕法、干法相結(jié)合的方式，取長(zhǎng)補(bǔ)短構(gòu)建清洗方案。
, 根據(jù) SEMI數(shù)據(jù)，2021 年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模 1026 億美元，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備銷售占比 29%，清洗設(shè)備價(jià)值量占比 5%，中國(guó)大陸半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場(chǎng)空間達(dá) 15 億美元?？紤]臭氧發(fā)生器占半導(dǎo)體清洗設(shè)備價(jià)值的比例為 15%，預(yù)計(jì) 2025 年/2030 年中國(guó)大陸半導(dǎo)體用臭氧發(fā)生器市場(chǎng)空間約 3.4 / 3.8 億美元。
, 根據(jù)國(guó)林科技公告，預(yù)計(jì) 2021 年半導(dǎo)體清洗用臭氧設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率僅 10%左右，假設(shè)清洗設(shè)備核心零部件國(guó)產(chǎn)化率快速提升，至 2030年國(guó)產(chǎn)化率達(dá) 95%，預(yù)計(jì) 2025 年/2030 年中國(guó)大陸半導(dǎo)體用臭氧發(fā)生器國(guó)產(chǎn)替代空間 1.6/ 3.7 億美元，較傳統(tǒng)臭氧下游市場(chǎng)空間彈性超 100%，2021-2030 年國(guó)產(chǎn)替代空間 CAGR 達(dá) 37%。
, 原文標(biāo)題 : 臭氧設(shè)備空間穩(wěn)步增長(zhǎng)，產(chǎn)品性能提升，新領(lǐng)域拓展未來可期
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