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電子工業(yè)TMAH廢水處理UV/O3工藝

2025-04-28 08:50:58 0

四甲基氫氧化銨(TMAH)為通過離子鍵形成的有機物,其具有高氮性和類似銨類氣味,是集成電路、液晶顯示器等制造業(yè)中最具代表性的化學(xué)試劑。因其不引入新的金屬離子,取代了傳統(tǒng)的氫氧化鉀作為顯影劑,已在光刻工藝中得到了廣泛應(yīng)用。含有TMAH的電子工業(yè)廢水具有強堿性、毒性,一般pH>12,傳統(tǒng)生物法無法降解這種有機廢水。當(dāng)前常采用厭氧-好氧聯(lián)用工藝處理TMAH廢水,但仍存在一些問題。例如,TMAH具有嚴重的好氧硝化抑制作用,導(dǎo)致好氧去除率不高。為了有效降解TMAH廢水,亟需研發(fā)一種有效的處理方法。

近年來,高級氧化技術(shù)被認為是解決難降解有機廢水的有效方法之一。由于臭氧具有強氧化性,因此基于臭氧的高級氧化工藝得到了廣泛關(guān)注和研究。UV/O3工藝是UVO3結(jié)合的高級氧化工藝,其降解有機物的機理包括三個方面:UV的降解;O3分子的降解;O3UV照射下產(chǎn)生?OH的降解,其中?OH的降解起主要作用。

已有學(xué)者開始采用高級氧化工藝處理TMAH廢水。例如,Li等分別研究了Fenton法和二價鐵離子活化過二硫酸鹽(PDS)法處理TMAH廢水,結(jié)果表明,在TMAH初始濃度為500mg/L,Fe2+、H2O2、PDS的濃度分別為0.04、0.12、0.06mol/L條件下,反應(yīng)4h后對TMAH的去除率僅分別為6.6%5.8%;Chiou等將臭氧與其他技術(shù)聯(lián)用處理TMAH廢水,結(jié)果表明,過氧化氫聯(lián)合臭氧的處理效果比單獨臭氧好。UV/O3對水中難降解有機物的降解效果較好,但目前國內(nèi)尚未見UV/O3處理TMAH廢水的相關(guān)報道。筆者研究了UV/O3作為預(yù)處理工藝將TMAH中有機氮降解為氨氮和硝態(tài)氮的效果,從而提高后續(xù)生物法降解TMAH廢水的效率。

1、材料與方法

1.1 試驗裝置

反應(yīng)裝置如圖1所示。反應(yīng)裝置是一個玻璃制成的柱狀反應(yīng)器,高為40cm,直徑為8.5cm。反應(yīng)容器中心有石英玻璃制成的冷阱套管,套管高為37.5cm,直徑為5.0cm,套管內(nèi)裝有功率為10W、波長為254nmUV燈。冷阱通過冷卻水循環(huán)給工作中的UV燈降溫,以保持溶液溫度在20℃左右,避免因紫外燈放出熱量而影響試驗結(jié)果。臭氧由臭氧發(fā)生器制得,產(chǎn)量為3g/h,出口濃度為21mg/L,并通過塑料軟管和曝氣盤將O3通入溶液中,外加流量計控制氣體流量,裝置外接尾氣處理裝置,通過KI溶液吸收逸出反應(yīng)器的O3。整個裝置放在磁力攪拌器上,工作時不斷攪拌,使溶液混合均勻。

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1.2 試驗用水

TMAH廢水來源于清洗硅片上沾有TMAH廢液的廢水,無其他物質(zhì)。為了貼合實際情況,本試驗采用25%TMAH溶液與去離子水配制所需濃度的TMAH廢水。

1.3 試驗方法

試驗開始前,調(diào)節(jié)廢水pH,為了模擬實際TMAH廢水的pH,初始pH調(diào)整為12.5±0.3,隨后打開UV燈預(yù)熱10~15min。預(yù)熱完畢后將制備好的TMAH廢水通過容量瓶直接加入反應(yīng)裝置中,初始TMAH廢水的濃度為250mg/L。反應(yīng)開始時,將O3連續(xù)通入反應(yīng)裝置中,通過氣體流量計控制O3流量為0.27、0.671.33、2.002.67L/min,此時水中的臭氧濃度分別為4.3、5.56.2、8.19.4mg/L。O3UV燈的照射下產(chǎn)生?OH來降解TMAH廢水。在特定時間取樣,向取得的樣品中加入2~3滴硫代硫酸鈉以消除水樣中殘存的臭氧。

1.4 分析項目及方法

TMAH在廢水中以有機氮的形式存在,并且降解的最終產(chǎn)物為氨氮和硝態(tài)氮,因此通過反應(yīng)前后TMAH降解為氨氮和硝態(tài)氮的量,推算出TMAH的降解效果。其中,TMAH廢水中有機氮為未完全降解的TMAH,包括未降解的TMAH和降解過程中產(chǎn)生的中間產(chǎn)物,如三甲胺、二甲胺等。將反應(yīng)過程中產(chǎn)生氨氮和硝態(tài)氮的量與初始TMAH廢水中N元素的量的比值稱作TMAH無機化率,記為PTMAH,表示UV/O3工藝將TMAH廢水中的有機氮轉(zhuǎn)變?yōu)闊o機氮的能力,見式(1)。其中,氨氮和硝態(tài)氮分別采用納氏試劑分光光度法、紫外分光光度法測定。水中的臭氧濃度通過碘量法測定。

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式中:PTMAHTMAH無機化率,%;Ct氨氮為t時刻氨氮的濃度,mg/L;Ct硝態(tài)氮為t時刻硝態(tài)氮的濃度,mg/L;CTMAH為初始時刻TMAHN元素的量,mg/L。

為了研究不同影響因素對TMAH廢水降解效果的影響,建立反應(yīng)動力學(xué)模型,采用準一級反應(yīng)動力學(xué)方程評估UV/O3TMAH廢水的降解效果。

2、結(jié)果與討論

2.1 UV/O3降解TMAH廢水的效能與影響因素

2.1.1 不同工藝處理TMAH廢水的效能比較

pH12.5、O3初始濃度為8.1mg/L、TMAH初始濃度為250mg/L的條件下,分析UVUV/O3、O3工藝對TMAH的降解效果,結(jié)果如圖2所示。

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由圖2可知,在相同時間內(nèi),TMAH無機化率的大小關(guān)系為UV/O3>O3>UV。當(dāng)采用單獨UV作用時,UV在氧氣存在的條件下能夠產(chǎn)生少量的?OH,但是這些少量的?OH無法有效降解TMAH廢水,所以TMAH的無機化率最大僅為4.5%。當(dāng)采用單獨O3作用時,TMAH的無機化率最大為36%。當(dāng)采用UV/O3工藝時,TMAH的無機化率最大為48%,比單獨UV和單獨O3效果好,表明紫外光能夠與O3產(chǎn)生一定的協(xié)同作用,從而有效提高TMAH的無機化率。分析原因,O3在紫外燈的作用下能夠產(chǎn)生大量的?OH,其氧化還原電位高、氧化能力強,所以能有效提高對TMAH的降解效果。UVO3、UV/O3的反應(yīng)速率常數(shù)(kobs)分別為0.00070.0076、0.0114min-1,可見UV/O3kobs最大,表明TMAH在相同時間內(nèi)轉(zhuǎn)化為氨氮和硝態(tài)氮的速率更快。

2.1.2 反應(yīng)時間對TMAH降解效果的影響

pH12.5、O3初始濃度為8.1mg/L、TMAH初始濃度為250mg/L的條件下,分析反應(yīng)時間對TMAH廢水處理效果的影響,結(jié)果如圖3所示??梢钥闯?,TMAH的無機化率隨著反應(yīng)時間的延長而升高。0~60min,TMAH廢水的降解速率較快,kobs0.0114min-1,60min時無機化率可達48%;60~90min的降解速率變慢,kobs0.0043min-1;90min時無機化率為55%。這是由于前60min內(nèi)?OH濃度越來越高,降解速率加快;當(dāng)反應(yīng)進行到60min時,TMAH的反應(yīng)速率減慢,無機化率在30min內(nèi)的增量不足10%,所以反應(yīng)時間控制在60min為宜。

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2.1.3 O3初始濃度對TMAH降解效果的影響

TMAH初始濃度為250mg/L、pH12.5的條件下,分析O3初始濃度對TMAH廢水處理效果的影響,結(jié)果如圖4所示??芍?,隨著O3初始濃度的增加,TMAH的無機化率也在不斷增大,當(dāng)O3初始濃度增加到9.4mg/L時,60minTMAH的無機化率超過50%,這就表明有一半的TMAH已經(jīng)被降解為氨氮和硝態(tài)氮,更有利于后續(xù)生物處理。當(dāng)O3濃度從4.3mg/L增加到9.4mg/L時,kobs0.0069min-1增加到0.0121min-1。分析原因,O3初始濃度增加后,產(chǎn)生了更多的?OH,大大加快了TMAH廢水的降解速率。但劉雪蓮等認為,O3濃度并不是越高越好,因為當(dāng)O3超過閾值后,O3產(chǎn)生的H2O2會清除?OH,降低?OH的濃度,從而抑制反應(yīng)物質(zhì)的降解效果。從試驗結(jié)果來看,當(dāng)O3濃度增加到9.4mg/L時,TMAH的無機化率雖然最高,但是反應(yīng)30min后,TMAH廢水的降解速率明顯變慢,造成這種現(xiàn)象的原因可能是出現(xiàn)了抑制作用。高級氧化在反應(yīng)剛開始時速率較快,但是從圖4可以看出,試驗前10min的無機化率并不高,10min后反應(yīng)速率進一步增加。原因是UV/O3產(chǎn)生的?OH降解TMAH主要是通過攻擊孤對電子的方式,但是TMAH沒有孤對電子,所以剛開始的反應(yīng)速率并不高,當(dāng)TMAH開始產(chǎn)生中間產(chǎn)物后(例如三甲胺,其有孤對電子)反應(yīng)速率進一步加快。

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2.1.4 TMAH初始濃度對TMAH降解效果的影響

O3初始濃度為8.1mg/L、pH=12.5的條件下,分析TMAH初始濃度對UV/O3處理TMAH廢水效果的影響,結(jié)果如圖5所示??芍?,增加TMAH廢水初始濃度后,系統(tǒng)的降解速率下降,當(dāng)TMAH廢水的初始濃度由100mg/L增加到1000mg/L時,kobs0.0143min-1減小到0.0041min-1。當(dāng)TMAH初始濃度為100mg/L時,60min時的無機化率為57%,表明有57%TMAH被降解為氨氮和硝態(tài)氮;當(dāng)TMAH初始濃度增加到1000mg/L時,60min時的無機化率僅為22%。由此可見,TMAH初始濃度對降解效果有較大的抑制作用。雖然TMAH廢水的初始濃度成比例增加,但是TMAH的無機化率并不是成比例減小,而且無機化率的減小幅度也在放緩,所以當(dāng)TMAH廢水的初始濃度增加時,若提高氧化劑的投加量,UV/O3仍能有效降解TMAH廢水,可以適應(yīng)未來電子工業(yè)的發(fā)展。

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2.1.5 pHTMAH降解效果的影響

TMAH初始濃度為250mg/L、O3初始濃度為8.1mg/L的條件下,分析pHTMAH廢水降解效果的影響,結(jié)果如圖6所示??芍?,隨著pH的升高,TMAH的無機化率也越來越高,且廢水在堿性條件下的kobs是酸性條件下的1.8倍。堿性條件下TMAH60min的無機化率為48%,酸性條件下為31%。分析原因,O3在堿性條件下比酸性條件下有更高的溶解度,而且在堿性條件下能產(chǎn)生更多的?OH。所以,TMAH廢水在堿性條件下的無機化率較高。建議企業(yè)將pH較高的廢水與TMAH廢水進行混合處理,以提高TMAH的降解效果。

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2.2 響應(yīng)曲面法優(yōu)化UV/O3工藝

TMAH初始濃度不變的條件下,以O3初始濃度、反應(yīng)時間、pH為自變量,采用Box-Behnken響應(yīng)曲面法,設(shè)計3因素3水平試驗方案,見表1。

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體系三元多項式回歸方程見式(2)。

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P值可以反映各因素的顯著性,P0.05表示不顯著。X1、X2X3P值分別為<0.0001、<0.00010.0254,均小于0.05,為顯著性影響因素。模型的P值也小于0.0001,顯著性為非常顯著,回歸方程描述各因子與響應(yīng)值之間的非線性方程關(guān)系是顯著的,也就說明了試驗方法是可靠的,并且確定系數(shù)為0.9947,說明該模型能解釋99.47%響應(yīng)值的變化,即該模型與實際試驗結(jié)果擬合良好。變異系數(shù)CV=5.98%,小于10%,表明模型的可信度和精密度高。

7為反應(yīng)時間、O3初始濃度和pH影響TMAH無機化率的響應(yīng)曲面。從圖7a)可以看出,隨著反應(yīng)時間和O3初始濃度的增加,TMAH無機化率也在增大。當(dāng)反應(yīng)時間不變時,隨著O3初始濃度的增加,TMAH無機化率增加幅度變?。划?dāng)O3初始濃度不變時,隨著反應(yīng)時間的延長,TMAH無機化率增加幅度變大。從圖7b)可以看出,隨著pHO3初始濃度的增大,TMAH無機化率也在增加。當(dāng)pH不變時,隨著O3初始濃度的增大,TMAH無機化率的增加幅度變大;當(dāng)O3初始濃度不變時,隨著pH的增大,TMAH無機化率增加幅度變小。從圖7c)可以看出,隨著反應(yīng)時間延長和pH的增大,TMAH無機化率也在增加。當(dāng)pH不變時,隨著反應(yīng)時間的延長,TMAH無機化率增加幅度變大;當(dāng)反應(yīng)時間不變時,隨著pH的增大,TMAH無機化率增加幅度變小。綜上所述,影響因素顯著性的大小關(guān)系為:反應(yīng)時間>O3初始濃度>pH。根據(jù)三元多項式回歸模型,利用DesignExpert13.0軟件求得的最佳工藝條件如下:O3初始濃度為9.4mg/L、反應(yīng)時間為60min、pH12.5,此時TMAH無機化率為54.8%,試驗得到的結(jié)果為53.5%,與預(yù)測值接近,說明試驗值與預(yù)測值之間的擬合性良好,證明該模型能夠有效預(yù)測UV/O3降解TMAH廢水的反應(yīng)結(jié)果。

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3、結(jié)論

UV/O3反應(yīng)體系在TMAH初始濃度為250mg/LO3初始濃度為8.1mg/L、pH12.5、反應(yīng)時間為60min的條件下,能夠有效降解TMAH廢水,無機化率達到了48%。相比于Fenton法和二價鐵離子活化過二硫酸鹽法,UV/O3反應(yīng)體系能夠更有效地降解TMAH廢水。

②利用響應(yīng)曲面法優(yōu)化試驗條件,影響因素顯著性的大小關(guān)系為反應(yīng)時間>O3初始濃度>pH。通過三元多項式模型計算出在最優(yōu)的試驗條件下TMAH無機化率為54.8%,而試驗值為53.5%,兩者接近,證明模型能有效預(yù)測UV/O3降解TMAH廢水的效果。(來源:沈陽建筑大學(xué)市政與環(huán)境工程學(xué)院,世源科技工程有限公司)

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